Gravure de platine

Des procédés photolithographiques sont utilisés pour appliquer les pistes conductrices sur une platine. La technologie plasma est utilisée à différents stades du processus. On applique d'abord une couche de métal sur toute la surface, puis une couche de photoréserve, qui est exposée et développée. La structure de la future piste conductrice reste recouverte de photoréserve. La gravure ionique réactive (RIE) élimine ensuite la couche métallique dans les zones non couvertes.
La gravure au plasma d'oxygène enlève finalement la photoréserve sur les pistes conductrices.