Sistema de plasma Nano usado para desarrollo de procesos, limpieza, activación, mordentado en series pequeñas - sistemas de plasma Diener

Sistema de plasma Nano usado

Datos técnicos:

Carcasa
An 600 mm, Al 2000 mm, Pr 800 mm

Cámara
Vidrio de cuarzo (UHP), puerta con bisagra
(aprox. ∅ 240 mm, Pr 390 mm)

Volumen de la cámara
aprox. 24 litros

Suministro de gas
2 canales de gas a través de válvulas de aguja
12 canales de gas a través de controlador de flujo másico (MFC)

Generador
1 unidad (2,45 GHz, 0 - 1500 W)

Control
Semiautomático