Etching

Proceso para eliminar el material de una superficie sólida, generalmente generado por reacciones químicas. Igualmente, también se denomina etching a procesos que utilizan sólo efectos físicos (etching físico, etching iónico).

Procesos específicos de etching:

  • Limpieza de superficies eliminando capas de óxido o capas adheridas.
  • Modificación de la estructura superficial, por ejemplo, para modificar las propiedades ópticas (crear superficies mates) o aumentar la rugosidad de la superficie para facilitar el pegado.
  • Creación de estructuras geométicas cubriendo diferentes áreas de una superficie antes de comenzar el proceso de etching de manera que las zonas cubiertas quedan protegidas del efecto de etching.

El proceso de etching puede producirse por sustancias líquidas reactivas o por tratamiento por plasma (etching por plasma) con un gas de proceso adecuado. Algunos ejemplos de etching por plasma son tratamiento de siliconas, SiO2 y Si4N3 en la industria microelectrónica, eliminación de capas de óxido sobre metales y plásticos que necesitan ser pegados y la activación por plasma no es suficiente (por ejemplo PTFE)