Zepto (low cost / budget contenuto)
Impianti al plasma a bassa pressione (plasma cleaner)
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L’ IMPIANTO DA LABORATORIO AL PLASMA A COSTI CONTENUTI ZEPTO da 2,6 litri, con controllo manuale o Basic PC, viene utilizzato principalmente per le seguenti applicazioni:
Produzione in piccole serie, Analitica (REM, TEM), Tecnologia medicale, Sterilizzazione, Reparti di ricerca e sviluppo, Archeologia, Tecnologia tessile, Tecnologia delle materie plastiche
Processi base al plasma
Pulizia di materiali
La tecnologia del plasma offre soluzioni per ogni tipo di sporco, di substrato e di post-trattamento, in quanto elimina anche i residui di contaminazione molecolare.
Attivazione di materiali
Una buona bagnabilità della superficie è un prerequisito per l'adesione delle parti leganti nel processo di verniciatura, incollaggio, stampa o bonding.
Dati tecnici
Zepto One
Semi-automatico kHz / Semi-automatico MHz
Dimensioni
L: 269 mm H: 176 mm P: 324 mm
Alimentazione
230 V | 16 A
Camera a vuoto
Vetro borosilicato
rotondo, con coperchio
Ø: 105 mm
P: 200 mm
Volume circa 1.7 L
Alimentazione gas
1 x valvola a spillo
generatore
100 kHz | Potenza in uscita 0 - 30 W
13,56 MHz | Potenza in uscita 0 - 30 W
Elettrodo
Coppia di elettrodi fuori dalla camera a vuoto
Unità di controllo
Unità di controllo semiautomatica
Alimentazione
230 V | 50 - 60 Hz
Misura della pressione
-
pompa
Capacità di aspirazione min. 3 m³/h
Zepto
Semi-automatico kHz / Semi-automatico MHz
Dimensioni
L: 425 mm H: 185 mm P: 450 mm
Alimentazione
Camera a vuoto
Vetro borosilicato
rotondo, Porta a battente
Ø: 105 mm
P: 300 mm
Volume circa 2.6 L
Alimentazione gas
2 x valvola a spillo
generatore
40 kHz | Potenza in uscita 0 - 100 W
13,56 MHz | Potenza in uscita 0 - 200 W
Elettrodo
Coppia di elettrodi fuori dalla camera a vuoto
Unità di controllo
Unità di controllo semiautomatica
Alimentazione
230 V | 50 - 60 Hz
Misura della pressione
Pirani
pompa
Capacità di aspirazione min. 3 m³/h
Zepto
PC kHz / PC MHz
Dimensioni
L: 425 mm H: 185 mm P: 450 mm
Alimentazione
Camera a vuoto
Vetro borosilicato
rotondo, Porta a battente
Ø: 105 mm
P: 300 mm
Volume circa 2.6 L
Alimentazione gas
2 x MFC
generatore
40 kHz | Potenza in uscita 0 - 100 W
13,56 MHz | Potenza in uscita 0 - 200 W
Elettrodo
Coppia di elettrodi fuori dalla camera a vuoto
Unità di controllo
Unità di controllo PC di base 7" (Windows Embedded Compact 7)
Alimentazione
230 V | 50 - 60 Hz
Misura della pressione
Pirani
pompa
Capacità di aspirazione min. 3 m³/h
Zepto RIE
Semi-automatico MHz
Dimensioni
L: 425 mm H: 310 mm P: 450 mm
Alimentazione
230 V | 16 A
Camera a vuoto
alluminio
rotondo, con coperchio
Ø: 190 mm
H: 60 mm
Volume circa 1 L
Alimentazione gas
2 x valvola a spillo
generatore
13,56 MHz | Potenza in uscita 0 - 200 W
Elettrodo
Elettrodo all'interno della camera da vuoto - Ø: 160 mm per wafer da 6" max.
Unità di controllo
Unità di controllo semiautomatica
Alimentazione
230 V | 50 - 60 Hz
Misura della pressione
Pirani
pompa
Capacità di aspirazione min. 3 m³/h
